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论文研究铝垫工艺晶须缺陷的改善及管控 .pdf

上传者: 2020-03-13 13:52:40上传 PDF文件 618.12KB 热度 26次
铝垫工艺晶须缺陷的改善及管控,柳小敏,黄其煜,随着集成电路线宽尺寸的减小,对各工艺层缺陷的消除及管控变得更加重要。晶须缺陷是铝垫工艺中的一种常见缺陷,它会阻挡铝刻蚀工
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