论文研究原子层沉积生长Al2O3薄膜表面钝化机理的研究 .pdf 上传者：Xieminsen 2020-04-20 00:56:57上传 PDF文件 601.5KB 热度 47次 原子层沉积生长Al2O3薄膜表面钝化机理的研究，孙平杨，张炳烨，本文采用原子层沉积(ALD)方法在不同导电类型的制绒单晶硅(c-Si)表面生长一层23nm厚的Al2O3薄膜。Al2O3薄膜结构利用场发射扫描显微镜(FESEM) 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
