原子层沉积法中AlOx薄膜厚度对表面钝化效果的研究 上传者：最爱吃糖小狂魔 2020-07-16 16:30:21上传 PDF文件 900.92KB 热度 40次 原子层沉积法中AlOx薄膜厚度对表面钝化效果的研究，谢洪丽，张炳烨，本文采用原子层沉积法 (ALD) 在p型制绒单晶硅 (c-Si) 表面生长了不同厚度的AlOx 薄膜，通过改变生长周期控制AlOx 薄膜的厚度，并对钝化和� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
