NH3流量对PECVD技术制备的a Si CN:H薄膜的微观结构和氧化性能的影响 上传者:shj1873 2021-03-11 09:15:56上传 PDF文件 895.76KB 热度 27次 NH3流量对PECVD技术制备的a-Si-CN:H薄膜的微观结构和氧化性能的影响 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论