用于在硅上快速直接书写表面花纹的激光化学技术 上传者：accp_33505 2021-02-23 23:24:04上传 PDF文件 1.83MB 热度 4次 用一台氩离子激光器控制显微化学反应演示了单晶和多晶泓的高分辨蚀刻。气相的Cl2或HCl用于靠表面加热和分子光解引发的反应中。得到了小于5微米的刻纹和高于5微米/秒的蚀刻速率。这种方法似乎马上可以适用于解决集成电路制造中的种种问题。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 accp_33505 资源：443 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
