光刻技术概况

光刻技术是集成电路的关键技术之一 在整个产品制造中是重要的经济影响因子,光刻成本占据了整个制造成本的35% 光刻也是决定了集成电路按照摩尔定律发展的一个重要原因,如果没有光刻技术的 进步,集成电路就不可能从微米进入深亚微米再进入纳米时代。 所以说光刻系统的先进程度也就决定了光刻工程的高低,光刻系统的组成: 光刻机(曝光工具) (光刻工程的核心部分,其造价昂贵.号称世界上最精密的仪 器,目前世界是已有7000万美金的光刻机.) 掩膜版 光刻胶(常伴随着光刻机的发展而前进.在一定程度上其也制约着光刻工艺的发展) 主要指标: 分辨率W(resol