磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管 上传者：qq_17477 2020-07-20 06:17:24上传 PDF文件 315.81KB 热度 30次 磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管，张莹莹，王雄，采用磁控溅射方法在玻璃衬底上生长了In2O3晶体薄膜。该薄膜具有（111）晶面择优取向，晶粒尺寸达到33 nm。利用光刻工艺制作了以In2O3晶 下载地址 用户评论 更多下载
