PECVD SiNx 薄膜应力的研究.pdf

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Author: qq_31102354

上传者：qq_31102354 2020-07-19 04:34:33上传 PDF文件 306KB 热度 44次

等离子增强化学气相淀积(P lasma2enhanced Chem ical V aper Depo sit ion, PECVD )SiN x 薄膜在微电子和微机械领域的应用越来越

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