论文研究 应力诱导孪晶形成的SiGe / Si(110)的表面粗糙度及其产生光滑表面的解决方案

生长在SiGe（110）/ Si（110）上的晶格应变Si薄膜吸引人，因为它们具有实现高速晶体管的潜力。 在这项研究中，我们使用扫描电子显微镜观察了Si / SiGe / Si（110）的表面形态，还使用截面透射电子显微镜观察了相同位置的微观结构。 这些结果表明，应力诱导孪晶的交叉会引起明显的表面粗糙度。 我们建议使用邻域底物来避免这种现象，本文显示了我们连续的实验结果。