DBD HWCVD沉积硅薄膜的研究 上传者:rogerswoo 2020-07-17 11:00:18上传 PDF文件 340.68KB 热度 46次 DBD-HWCVD沉积硅薄膜的研究,张春丽,刘艳红,介质阻挡放电(DBD)等离子体增强热丝化学气相(HWCVD)沉积技术延承了PE-HWCVD技术沉积速率高的特点,同时降低了其中高能离子对薄膜的损 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论