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磁控溅射启辉电压波动和机理

上传者: 2020-07-16 10:33:35上传 PDF文件 339.08KB 热度 23次
磁控溅射启辉电压波动和机理,牟宗信,邓新绿,磁控溅射沉积技术被广泛应用于沉积各种功能薄膜。深入研究其放电特性对控制沉积过程有重要意义。在磁控靶表面,和电场正交的磁场
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