论文研究Simulations and Analysis of the Moving Mask UV Lithography for Thickphotores 上传者：宛陵秋 2020-07-16 06:31:14上传 PDF文件 530.45KB 热度 35次 厚胶移动掩膜UV光刻模拟，余倩，周再发，基于菲涅耳衍射模型对移动掩膜曝光过程进行模拟，利用掩膜的移动函数计算掩膜移动对曝光的影响，同时考虑UV光在空气/光刻胶界面的 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
