论文研究Simulations and Analysis of the Moving Mask UV Lithography for Thickphotores 上传者：宛陵秋 2020-07-16 06:31:14上传 PDF文件 530.45KB 热度 15次 厚胶移动掩膜UV光刻模拟，余倩，周再发，基于菲涅耳衍射模型对移动掩膜曝光过程进行模拟，利用掩膜的移动函数计算掩膜移动对曝光的影响，同时考虑UV光在空气/光刻胶界面的 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 宛陵秋 资源：19545 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
