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Sb对Bi2Te3拓扑绝缘体性能及结构的调控研究

上传者: 2020-05-15 20:05:13上传 PDF文件 663.67KB 热度 19次
Sb对Bi2Te3拓扑绝缘体性能及结构的调控研究,姜颖,王勇,利用分子束外延(MBE)方法制备出厚度为30QLs(quintuplelayers)、具有不同Sb掺杂浓度的Bi2Te3拓扑绝缘体(TI)薄膜材料。通过输运性能的�
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