基本光刻工艺前面已经介绍.随着图形尺寸减小到亚微米级芯片制造工艺对低缺陷密度的要求越来越迫切还有芯片...

本章中将介绍从显影到最终检验所使用的基本方法.还涉及掩膜版工艺的使用和定位错误的讨论.详细的介绍了光...