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    化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学...

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  • Untitled.mph

    化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学...

    大小：3.78MB | 2020-07-21 02:23:50
  • models.molec.uhv_cvd.pdf

    化学气相沉积是半导体工业经常使用的工艺，用于在晶片衬底上生长高纯度硅，基于comsol对超高真空化学...

    大小：379.22KB | 2020-07-18 10:32:20