离子束电子束多功能材料表面处理设备* (1993年)

本设备由以下系统组成；注入系统：有溅射离子源及不对称三电极加速管，能量50kev，流强4mA（N+）；电子束系统：能量45keV，功率密度102-106W/cm2；配备微机程序的束偏摆装置；靶材易换的磁控溅射靶；可作旋转、平移、升降等机械运动的高真空工作室（500mm×1600mm）。可进行离子注入及混合、电子束上釉及合金化、磁控溅射离子镀等工艺。该设备为材料表面改性和薄膜制备提供了新的手段。