行星式平面研磨机研抛过程轨迹分析(2002年)
深入探讨了常用的行星式平面研磨抛光机的运动机制。从关键点、圆心出发，将复杂的研磨抛光动作简化为在固定距离下工件与磨盘相对于假设的轴杆的两个绕定轴的旋转移动。根据速度比的选择差异，可以将行星式平面研磨运动分为三种类型；分析其轨迹曲线种类。这为进一步探讨轨迹类型对加工质量及效率的影响提供了理论支持。
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