步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展

Name: 步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展
Rating: 4.5 (47 reviews)
Author: 坤卍

上传者：坤卍 2021-04-27 13:30:01上传 PDF文件 627.5KB 热度 47次

着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析.

下载地址

用户评论

更多下载

下载地址

立即下载

用户评论

步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展

着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析.

大小：628KB | 2021-04-27 13:30:01
一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术

提出一种步进扫描投影光刻机承片台不平度检测新技术。在晶圆与承片台存在不同偏移量时,利用线性差分传感器...

大小：1.08MB | 2021-04-25 15:59:59
步进扫描投影光刻机剂量控制参量优化新算法研究

提出了一种以生产率、剂量精度与激光器使用成本三者最佳匹配为优化目标的步进扫描投影光刻机剂量控制参量优...

大小：592KB | 2021-02-24 00:20:31
投影光刻机调焦调平传感技术的研究进展

阐述了投影光刻机调焦调平传感器的重要作用及其技术进展,详细介绍了国际上典型的调焦调平传感器,并对多种...

大小：1.38MB | 2021-04-08 18:27:02
光刻机和光掩模版

集成电路制造加工中最重要的光刻工艺模块，经典的教材

大小：0B | 2019-05-28 10:03:31
一种测量光刻机工件台方镜不平度的新方法

提出一种新的步进扫描投影光刻机工件台方镜不平度测量方法。以方镜平移补偿量与旋转补偿量为测量目标,使用...

大小：802KB | 2021-02-23 22:18:43
双工件台光刻机中的焦面控制技术

面对可用焦深日益缩短的趋势,高精度的焦面控制技术显得尤为重要。针对双工件台光刻机中采用的焦面控制技术...

大小：1.4MB | 2021-02-08 19:52:42
投影光刻机硅片调焦调平测量模型

成像质量是光学光刻机的最主要指标,硅片调焦调平测量是光刻机控制成像质量的基础。为此建立了硅片调焦调平...

大小：661KB | 2021-04-08 18:27:04
投影光刻机光学系统的总体设计

本文从投影光刻机的图形传递要求出发,导出投影光刻机各主要光学系统的具体要求,并讨论这些参数确定的局限...

大小：4.69MB | 2021-04-06 18:02:00
基础电子中的步进扫描光刻机

步进扫描光刻系统是一种混合设各,融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术,是通过使用缩小透镜扫描一个...

大小：78KB | 2020-11-17 07:02:51
用于投影光刻机光瞳整形的衍射光学元件设计

投影光刻机普遍采用衍射光学元件(DOE)来产生各种照明模式。针对投影光刻机中准分子激光器空间相干性差...

大小：2.39MB | 2021-02-19 21:44:01
高分辨率投影光刻机光瞳整形技术

在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强...

大小：1.88MB | 2021-02-01 07:05:10
基于粒子群优化算法的光刻机光源掩模投影物镜联合优化方法

全芯片多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的重要发展方向。提出了一种基于粒子群优化(PSO)算法的光源...

大小：14.55MB | 2021-03-26 20:41:59
步进扫描光刻机扫描运动轨迹规划及误差控制

研究一种步进扫描投影光刻机工作台扫描运动超精密轨迹规划算法及误差控制策略。在分析三阶扫描运动与步进运...

大小：457KB | 2021-04-19 18:45:59
极紫外投影光刻掩模阴影效应分析

极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入...

大小：1.67MB | 2021-02-09 17:54:59
光刻机的匹配和调整

周虎明韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡 214035)摘要:光刻机的匹配使用是半...

大小：104KB | 2020-12-17 08:17:51