紫激光作用下四甲基硅多光子电离TOF质谱研究 上传者：芝豆香农 2021-04-26 12:57:56上传 PDF文件 1.42MB 热度 17次 本文采用超声分子束技术,以飞行时间质谱仪,在396~387nm内的紫激光作用下对四甲基硅进行了多光子电离飞行时间质谱的研究,在较高的激光能量作用下检测到了Si(CH3)(n=1,2,3,)、Si9及等多种离子的信号,在较低的激光能量作用下只检测到了Si9、等离子的信号,表明四甲基硅在不同激光能量作用下经历了不同的多光子电离过程. 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 芝豆香农 资源：450 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
