含三氰基二氢呋喃结构单元的非线性光学聚合物的制备与性能研究

通过Friedel-Crafts烷基化反应合成了一种含三氰基二氢呋喃结构单元的新型非线性光学聚合物(P1),并采用旋涂法和电晕极化方式制备了极化聚合物膜。利用原子力显微镜和紫外可见分光光度计研究了极化前、后聚合物膜的表面形貌和吸光度的变化,并根据极化前后薄膜吸光度的变化计算了发色团分子的有序度,Φ=0.20。采用二次谐波法测试了极化聚合物膜的二阶非线性光学特性及其稳定性。结果表明,经过电晕极化后,聚合物膜的倍频系数d33=9.4 pm/V。在室温下放置2天后,d33值稳定在初始值的70%以上。与掺杂型聚合物膜相比,二阶非线性光学稳定性有了明显提高。