使用具有等离子反射层的超透镜进行亚波长放大成像和光刻

与放大模式下的情况不同,发现以放大倍数和光刻方式使用的超透镜特别是对于高分辨率图像特征,成像质量大大下降。 这个问题主要是由于光的横向磁极化特征引起的,该特征在成像区域降低了电子元件强度分布的对比度。 具有等离子反射层的超透镜设计用于亚波长缩小成像和光刻。 分析方程和数值模拟表明,在圆柱状几何结构中,由超​​透镜和等离子反射器夹在中间的光刻胶中的反射reflected逝波放大了。 包括分辨率,对比度和强度的图像质量功能可以得到显着改善。 还介绍了几何参数对成像质量的依赖性和影响。 在365 nm的照射波长下,以约15 nm的半节距分辨率成像进行了数值演示。