施加的电场和静水压力对圆柱形GaN / AlN量子点中施主杂质态的影响 上传者:zhangyuan63794 2021-03-05 07:26:09上传 PDF文件 249.1KB 热度 11次 基于有效质量近似和变分程序,考虑了沿生长方向施加的电场和静水压力的影响,研究了圆柱状掺锌GaN / AlN量子点(QD)中的施主杂质态。 数值结果表明,供体的结合能高度依赖于杂质位置,量子尺寸,施加的电场和静水压力。 可以发现,静水压力对量子点中氢杂质的施主结合能具有显着影响,而量子点尺寸小且施加的电场强。 但是,施加的电场明显影响QD尺寸大且静水压力小的QD中的供体结合能。 此外,还详细研究了量子点中外加电场与量子约束之间的竞争效应,这对于理解半导体纳米结构中的杂质态很有帮助。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 zhangyuan63794 资源:493 粉丝:0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台,下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容!联系邮箱:server@dude6.com