氧化钒薄膜的制备及其光电特性研究 上传者：nerognu 2021-02-23 20:35:23上传 PDF文件 1.37MB 热度 55次 采用一种新工艺在Si和Si3N4衬底上制备了性能优良的氧化钒薄膜,并对其微观结构和光电特性进行了研究。测试结果表明采用新工艺所制备的氧化钒薄膜在相变前后电阻率变化达到3个数量级,红外透过率在相变前后改变达到60%。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
