国际主流光刻机研发的最新进展 上传者：q86364 2021-02-21 08:01:11上传 PDF文件 946KB 热度 36次 介绍了65 nm和45 nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
