极紫外投影光刻原理装置的集成研究

论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成.其工作波长为13 nm,在直径为0.1 mm的像方视场内设计分辨率优于0.1 μm.