新型可溶性亚酞菁旋涂薄膜的光学常数 上传者：陈华涵 2021-02-19 11:39:48上传 PDF文件 127.61KB 热度 33次 通过旋涂法在单晶硅片上制备了一种新型可溶性亚酞菁(三新戊氧基溴硼亚酞菁)薄膜.利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱,测量了其复折射率、复介电函数和吸收系数,并对其吸收谱的成因作了分析. 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
