优化掩模分布改善数字光刻图形轮廓

基于数字微反镜(DMD)的无掩模数字光刻系统可用于IC掩模制作或直接作为微结构的加工工具, 有着广泛的应用前景。但理论和实验均发现基于DMD数字光刻系统加工连续表面微结构元件时, 往往难以获得预期的图形轮廓, 加工出的图形表面具有规则的振荡起伏。在深入探讨DMD灰度图形传递的基础上, 分析了空间像畸变产生的物理机制, 并提出用模拟退火算法来优化掩模图形, 在5%的相对曝光量偏差范围内模拟表明优化有效地消除了表面起伏, 最后利用优化的掩模实验加工出表面轮廓比较良好的轴锥镜阵列。该方法能有效改善面形质量,而且不存在掩模制作等问题, 这对于制作高质量的微结构元件有重要意义。