高光谱像面干涉的近场成像机理研究

像面干涉成像光谱技术具有高光通量、高目标分辨率、高光谱分辨率等优点,主要应用于遥感光谱成像领域。为实现近场目标的探测,对近场像面干涉成像进行了理论分析,研究了成像质量的影响因素,计算了干涉光程差和最小可探测距离。研究了近场干涉图像中条纹调制度的影响因素,推导了调制度的物理表达式,并分析了干涉条纹调制度对信噪比以及复原光谱准确度的影响。为提高近场干涉图像的调制度和成像质量,提出了一种基于二次成像的像面干涉成像光谱方法。搭建了像面干涉成像光谱的实验装置,对近场目标进行了探测,并对获取的干涉图像进行了分析;利用二次成像的像面干涉成像光谱方法,对近场目标进行干涉成像实验,获取了调制度较高的近场干涉图像