[推荐]纳米图形转印技术

摘要: 通过1:1模版,纳米图形转印技术(NIL)也许可以使光刻工程师采用更加简单的方法进行10nm以下图形的转移。尽管NIL正逐步从研究所走向工业应用,但是目前仍然处于发展初期,需要进一步证明其用于大批量生产的可能性。 没有人会否认随着半导体技术的发展,光刻变得越来越复杂了。过去,人们普遍认为光刻最小特征尺寸不可能小于曝光所用波长。现在的情况却完全相反。最先进的光刻设备可以用193nm准分子激光为光源生产90nm芯片。在浸入式光刻技术的帮助下,预计193nm光刻设备还可以用于65nm甚至45nm工艺的生产。 光刻技术的发展就象是神话故事一样,但是这一切都在逐渐成为现实。不可避免的