基础电子中的RIB刻蚀气体系统

RIB中一般不采用单一品种的气体,而是数种气体的组合(气体系统)。其作用分别是: (1)主刻蚀气体。一般用含卤族元素的气体,特别是卤碳化合物气体。之所以较少使用纯卤元素气体,是因为其化合物气体较易处理,操作危险性小。 (2)惰性气体(Ar,He等)起稳定和均匀等离子体的作用,并有加强各向异性刻蚀效果的作用。 (3)基团或未饱和物的清除物。在电子轰击下,有一部分卤碳化合物被分解成卤素(刻蚀剂)和不饱和卤碳化合物(卤素被剥离后剩下的部分)。不饱和卤碳化合物可能是刻蚀剂,也可能不是。它可与卤素重新复合(这会降低刻蚀剂卤素的浓度),也可能形成聚合物(Polymers)(聚合物有可能阻