光刻机ASML内部培训资料介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理

Name: 光刻机ASML内部培训资料 介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理
Rating: 4.5 (60 reviews)
Author: 大方167发的

上传者：大方167发的 2020-09-27 17:40:42上传 ZIP文件 488.56MB 热度 60次

本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ,包括介绍芯片的制作过程以及原理,光刻机的使用说明以及原理等等

下载地址

用户评论

更多下载

下载地址

立即下载

用户评论

光刻机ASML内部培训资料介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理

本资料包含荷兰光刻机厂商ASML的内部培训资料 ,包括介绍芯片的制作过程以及原理,光刻机的使用说明以...

大小：488.56MB | 2020-09-27 17:40:42
ASML光刻机介绍

ASML光刻机介绍

大小：12.3MB | 2021-01-15 23:02:17
Asml光刻机及工艺介绍

Asml光刻机及工艺介绍

大小：8.9MB | 2021-01-09 19:04:58
ASML光刻机：科技行业冠军的明珠详解

ASML作为光刻机行业的领军企业，不断推进技术创新，一直以来都是科技行业的佼佼者。本报告详细介绍了A...

大小：1.8MB | 2023-05-05 09:44:16
光刻机及行业现状

描述了光刻机及行业现状，浸润式光刻机，各种制程，ASML

大小：0B | 2019-09-22 02:37:13
光刻机的匹配和调整

周虎明韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡 214035)摘要:光刻机的匹配使用是半...

大小：104KB | 2020-12-17 08:17:51
高速激光点阵光刻机的设计

为了制作大尺寸激光防伪商标,开发了高速激光点阵光刻机。该光刻机以工控机为上位机,ARM LPC213...

大小：282KB | 2020-10-28 04:05:38
光刻机NIKON的设计与结构

光刻机(NIKON)的设计与结构

大小：26KB | 2021-01-31 06:01:27
ASML lithography目前世界上最先进的光刻机

TWINSCAN:trade_mark: XT:1700iThe XT:1700i with Hyd...

大小：19KB | 2020-12-12 07:32:38
光刻机和光掩模版

集成电路制造加工中最重要的光刻工艺模块，经典的教材

大小：0B | 2019-05-28 10:03:31
紫外光刻机说明书

大小：0B | 2019-03-02 02:34:51
基础电子中的分步重复光刻机

图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间,掩模图像是被缩小了5~10倍投影...

大小：58KB | 2020-11-17 12:37:55
TG2U型光刻机

■ [产品名称]:TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]: 半导体设备 ■ [产品简介]: 产品特点:T...

大小：41KB | 2020-12-12 13:35:08
极紫外光刻机光源技术

极紫外光刻机光源技术

大小：728KB | 2021-04-06 18:02:06
半导体光刻工艺及光刻机全解析

光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上,为下一步进行刻...

大小：303KB | 2021-01-13 14:55:52
基础电子中的步进扫描光刻机

步进扫描光刻系统是一种混合设各,融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术,是通过使用缩小透镜扫描一个...

大小：78KB | 2020-11-17 07:02:51

光刻机ASML内部培训资料 介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理

光刻机ASML内部培训资料介绍芯片的制作流程以及光刻机的部分原理