使用Markus平行板电离室GafChromic EBT3膜和用于高能光子束的MOSFET检测器测量表面和堆积区域的剂量

这项研究的目的是使用Markus平行板电离室,GafChromic EBT3膜和MOSFET检测器针对不同的场尺寸和束角,研究6 MV和15 MV光子束的表面和累积区域剂量。 在6×MV和15 MV光子束的表面以及在100 cm源-探测器距离处的水等效固体模型中对5×5、10×10和20×20 cm2的场大小进行测量 以及0°,30°,60°和80°的光束角。 对于Markus室,EBT3膜和MOSFET检测器,使用10×10 cm2场大小的6 MV光子束的表面剂量分别为20.3%,18.8%和25.5%。 对于Markus室,EBT3膜和MOSFET检测器,使用15 MV光子束在10×10