双光子加喷嘴的电弱校正

我们计算出与LHC的零，一和两个射流相关的光子对的产生的次要阶电弱校正。 我们使用GoSam和Sherpa以完全自动化的方式获得结果。 对于一组典型的基准切割，电弱校正会导致总横截面的修改高达3％，具体取决于射流的多重性。 我们发现，在微分分布方面做出了重大贡献，导致在大型强子对撞机范围内对相空间区域进行了百分之十的校正。 此外，我们研究了光子诱导过程以及亚铅贡献的重要性。 发现光子诱导的过程可以忽略不计，次铅的影响可能会产生很大的影响，但是可以通过适当的相空间削减将其除去。