论文研究 电化学阻抗谱研究硫辛酸自组装单层膜中的离子渗透

利用电化学阻抗谱研究了硫铜酸自组装单层中电解质离子在铜离子相互作用下的结构变化。 通过使用相对较低的激发频率（0.2 Hz至1000 Hz）评估离子渗透，并通过等效电路（RSAM）中的额外电阻分量进行量化。 研究了离子渗透程度受电极电势和电解质浓度的影响。 实验结果证明，当电解质浓度降低10倍时，RSAM通过与铜离子的相互作用而降低约70％，并且RSAM升高约2-3倍。 无需添加氧化还原物质即可进行该分析。