热丝CVD低温下快速制备碳化硅基硅纳米晶薄膜的研究 上传者：vb96600 2020-07-19 04:47:39上传 PDF文件 347.1KB 热度 55次 热丝CVD低温下快速制备碳化硅基硅纳米晶薄膜的研究，蒋继文，刘艳红， 采用热丝化学气相沉积（HWCVD--Hot Wire Chemical Vapor Deposition）技术在低温下制备碳化硅基硅纳米晶（Si-NC:SiC --Si NanoCrystal embedded in Silicon Carb 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
