论文研究 一种有效去除化学机械抛光后残留有机物的新方法 .pdf
一种有效去除化学机械抛光后残留有机物的新方法，武彩霞，刘玉岭，本文提出了硅片化学机械抛光后表面残留的有机物污染，介绍了金刚石膜电化学合成过氧化物的方法，原理。根据有机物易被氧化分解的
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