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压印光刻中压印力与留膜厚保值度的研究

上传者: 2020-07-17 20:18:01上传 PDF文件 667.6KB 热度 17次
压印光刻中压印力与留膜厚保值度的研究,尹磊,丁玉成,针对压印光刻(IL)工艺实现图章保真复型对阻蚀胶残留膜的厚度和均匀度的要求,对压印固化过程中压印力与残留膜厚度以及残留膜在�
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