压印光刻中压印力与留膜厚保值度的研究 上传者：daydayshow 2020-07-17 20:18:01上传 PDF文件 667.6KB 热度 22次 压印光刻中压印力与留膜厚保值度的研究，尹磊，丁玉成，针对压印光刻（IL）工艺实现图章保真复型对阻蚀胶残留膜的厚度和均匀度的要求，对压印固化过程中压印力与残留膜厚度以及残留膜在� 下载地址 用户评论 更多下载
