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掺硼非晶硅薄膜性能研究

上传者: 2020-07-17 11:00:10上传 PDF文件 298.72KB 热度 28次
掺硼非晶硅薄膜性能研究,朱魁鹏,吴志明,用等离子体增强化学气相沉积法制备了掺硼氢化非晶硅薄膜材料,对薄膜的电阻率和均匀性进行了研究.结果表明,掺硼a-Si:H薄膜的电阻率随
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