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Interfacial effects of TiN/Si3N4 super hard multilayer films studied by fluoresc

上传者: 2020-07-17 02:51:51上传 PDF文件 580KB 热度 19次
荧光XAFS研究超硬TiN/Si3N4多层膜的界面效应,潘志云,Zhihu Sun,本文采用荧光XAFS和XRD研究了磁控溅射法制备的在20、200、500和800°C生长的超硬TiN/Si3N4多层膜的结构。结果表明生长温度对TiN与Si3N4界面混�
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