论文研究 溶胶 凝胶技术沉积氟掺杂的氧化锡薄膜
在本工作中,使用由(SnCl2,H2O),(NH4F)和乙醇混合物组成的溶液,通过溶胶凝胶法制备了未掺杂(SnO2)和掺氟氧化锡(FTO)薄膜。 研究了氟浓度对SnO2薄膜的结构,光学和电学性质的影响。 通过溶胶凝胶制备的FTO薄膜的电性能仍然比通过其他技术沉积的薄膜低。 在本文中,我们试图阐明这种差异。 薄膜的组成和薄膜的FTIR分析以及薄膜在生长过程中形成的沉淀表明,SnO2网络中掺入的氟很少,大部分氟原子保留在溶液中。 膜的电阻率从未掺杂膜的1.1Ω·cm降低到50 wt。%掺杂的FTO的3×10-2Ω·cm,但仍高于文献报道的电阻率。 用溶液中的氟键亲合力来解释这种高电阻率。
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