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论文研究 基于Monte Carlo法模拟电子轰击型成像器件中的二次电子分布 .pdf

上传者: 2020-02-07 02:34:17上传 PDF文件 733.11KB 热度 14次
基于MonteCarlo法模拟电子轰击型成像器件中的二次电子分布,詹丹,李鑫,依据电子与固体间相互作用原理结合蒙特卡洛(MonteCarlo)模拟方法,对入射到电子轰击型成像器件(如EBCMOS/EBCCD)电子倍增层内的大量电��
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