mosfet制程简介

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Author: sinat_18999733

上传者：sinat_18999733 2019-07-24 18:44:21上传 PDF文件 305.58KB 热度 49次

mosfet制程简介RCA清洗SC1功用:去除晶片表面particle與polymer.SC2功用:去除晶片表面金屬殘留

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